Single Chamber Processing (PDF)
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The 14 papers in this volume cover topics such as: The background of this approach and up-dated status; Design and concepts of relevant cluster tools equipment; Specific process modules such as deposition chambers (CVD, RTCVD, UVCVD, ...) annealing or etching reactors; and Standardization efforts. The work will provide both a stimulus for future research in this field, as well as useful reference material on the new technology trends in microelectronic device manufacturing technology.
- 1993, Englisch
- Herausgegeben: Y. I. Nissim, A. Katz
- Verlag: Elsevier Science & Techn.
- ISBN-10: 0444596933
- ISBN-13: 9780444596932
- Erscheinungsdatum: 15.02.1993
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