Vacuum Technology in the Chemical Industry (ePub)
(Sprache: Englisch)
Dieser Band, entstanden auf der Grundlage der erfolgreichen deutschen Ausgabe und eines regelmässig stattfindenden VDI-Seminars, bietet Ihnen neben einer übersichtlichen Zusammenfassung der physikalischen Grundlagen der Vakuumtechnik viele Anwendungen in...
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Produktinformationen zu „Vacuum Technology in the Chemical Industry (ePub)“
Dieser Band, entstanden auf der Grundlage der erfolgreichen deutschen Ausgabe und eines regelmässig stattfindenden VDI-Seminars, bietet Ihnen neben einer übersichtlichen Zusammenfassung der physikalischen Grundlagen der Vakuumtechnik viele Anwendungen in Chemie und Pharmazie. Spezielle Kapitel informieren Sie über die Arbeit in Gefahrenzonen, über Methoden zur Prozessteuerung und Strategien zur effektiven Lecksuche. -- Fast alle Autoren sind in einem der zehn wichtigsten Vakuumtechnologie-Unternehmen beschäftigt.
Autoren-Porträt
Wolfgang Jorisch, age group 1946, studied chemistry at RWTH Aachen University, and gained his doctorate from the University of Essen. He worked at RWTÜV in Essen from 1980-87, before taking up a position in technical sales and distribution at the chemistry applications segment of Leybold Vacuum in Cologne, Germany. In 2000 he switched to the same occupation at Graham Precision Pumps Ltd, UK, at this time a subsidiary of Graham Corporation, Batavia, NY, USA., now-a-days a company of Dr.-Ing. K. Busch UK, until 2005, when he began IVPT Industrielle Vakuumprozesstechnik, seat in works of Oerlikon Leybold Vacuum in Cologne (Germany). Dr. Jorisch has been a member of the board of "Vakuum in Forschung und Praxis (VIP)" from the year of the journal`s start in 1987 up to 2012. Since end of 2011 he is in retirement.
Bibliographische Angaben
- 2015, 1. Auflage, 392 Seiten, Englisch
- Herausgegeben: Wolfgang Jorisch
- Verlag: Wiley-VCH
- ISBN-10: 3527653910
- ISBN-13: 9783527653911
- Erscheinungsdatum: 27.02.2015
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eBook Informationen
- Dateiformat: ePub
- Grösse: 34 MB
- Mit Kopierschutz
Sprache:
Englisch
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