Ergebnisse aus der Lasertechnik / Einflussfaktoren auf die Emissionseigenschaften einer EUV Strahlungsquelle im Langzeitbetrieb
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem...
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Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Grossformatiges Paperback. Klappenbroschur
Bibliographische Angaben
- Autor: Jochen Vieker
- 2020, 146 Seiten, Masse: 14,5 x 20,5 cm, Kartoniert (TB), Deutsch
- Verlag: Apprimus Verlag
- ISBN-10: 3863598598
- ISBN-13: 9783863598594
- Erscheinungsdatum: 12.05.2020
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